真空弧源沉积类金刚石薄膜及其性能研究
更新时间：2019-05-21
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作者联系方式：西南交通大学材料学院生物材料及表面工程研究所;
会议名称：第九届全国生物材料学术会议（CBMS-9）
召开年：2002
摘要：采用真空弧源沉积技术在钛合金及Si(100)表面合成DLC薄膜,通过控制离子能量调整DLC薄膜中的SP3/SP2比值。研究表明,薄膜硬度可达96GPa,随着离子轰击效果的增强,薄膜的硬度先增加,后有明显降低。而随着离子轰击效果的增强,类金刚石薄膜中,SP2键增加,SP3键从75%明显减少到59%,薄膜的血液相容性却逐渐提高,DLC薄膜具有优异的耐磨性,摩擦系数低,且与钛合金基体结合牢固。
